在半导体工业中漂洗水里所含的有机化合物会影响产品的产量和质量。因此规定水中的总有机碳（TOC）污染物的含量不得超过百万分之一（ppb），即在此应用中只能适用超纯水。
紫外照射技术的强大发展使其成功地引入半导体、制药化妆品，保健品等工业的超纯水制造中，此项技术不仅在消毒方面发挥巨大作用，在降低TOC，去除臭氧和氯方面也效果显著。
在这一应用使用2钟UV波长，254nm和185nm，254nm波长的紫外光用于消毒作用，同事能破坏水中残留臭氧分子。185nm辐射能分解有机物分子，他比254nm波长能量更高。能从水分子中分解出自由羟基，从而将有机物氧化分解成CO2和水，从而降低了水中的TOC含量。
本装置采取了特制的高强度臭氧紫外线杀菌灯和内壁经过特殊处理的微炭臭氏体不锈钢筒体，筒体外侧经特殊抛光处理，使经过预处理的水在流过筒体时受到185nm紫外线的足够线量的照射，具有良好的杀菌效果，也有效减少了对超纯水的影响。
TOC紫外线杀菌器利用紫外线的特性，杀灭水中细菌、病毒、酵母、霉菌及藻类生物，不需添加任何化学药品及不需加热或冷却，即能达到消毒效果，故广泛适用于电子工业
超纯水系统作流水杀菌用，也适用于医药品、饮料、化学、化妆品等工业原料水、饮用纯净水、矿泉水、洗净水系统作流水杀菌用，对机关团体、高级饭店、公共场所等供水系统，也是理想的卫生防疫消毒设备。
结构合理，造型美观，材料优良，效果显著，使用方便，经久耐用。
⊙ 经紫外线消毒系统处理过的水体，其各病毒、细菌的除去率达99%以上。
⊙ 对饮用水终端加用紫外线消毒，可达到直接饮用水的标准。
⊙ 对城镇污水消毒，细菌总量降至200个/100ml以下，大肠杆菌20个/100ml以下。
